جنسن هوانگ، مدیرعامل انویدیا، پیشبینی میکند چین تا سال ۲۰۳۰ به ابزارهای پیشرفته لیتوگرافی برای ساخت تراشه دست خواهد یافت و این را “فقط مسئله زمان” میداند. او به توانایی چین در تولید انبوه اشاره میکند، هرچند این کشور تاکنون در توسعه ابزارهایی همتراز با ASML ناکام بوده است. در حال حاضر، تولیدکننده اصلی چین، SMEE، اسکنرهای خشک ۱۹۳ نانومتری برای فناوری ۹۰ نانومتری تولید میکند و گزارشهایی از توسعه اسکنر غوطهوری ۲۸ نانومتری وجود دارد، اما شواهد عمومی برای تولید انبوه آن در دسترس نیست.
اما کارشناسان معتقدند هوانگ بیش از حد خوشبین است. حتی با تحویل اولین اسکنرهای ۲۸ نانومتری تا ۲۰۲۶، استفاده گسترده تا ۲۰۲۸-۲۰۲۹ بعید است و چین را از سیستمهای ASML عقب نگه میدارد. این کشور در لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) نیز فاصله قابل توجهی دارد و هنوز به مونتاژ نمونه اولیه اسکنر EUV نزدیک نیست. با این حال، با توجه به اهمیت رقابت هوش مصنوعی و عزم دولت چین برای خودکفایی فناوری، دستیابی به این هدف در بلندمدت محتمل است.
کنفرانس سالانه هات چیپس با حضور شرکتهای بزرگی چون انویدیا، AMD و اینتل آغاز شده و به بررسی آخرین پیشرفتها در صنعت میپردازد. این رویداد شامل جلسات فنی متمرکز بر آینده صنعت، از جمله شتابدهندههای هوش مصنوعی و پردازندههای نسل بعدی است. برای دسترسی رایگان به پوشش کامل این کنفرانس و تحلیلهای فنی عمیق آن، کاربران میتوانند از ۲۳ تا ۲۶ آگوست با ثبتنام یک حساب کاربری، بدون نیاز به پرداخت، از این محتوا بهرهمند شوند.
سرویس پریمیوم علاوه بر پوشش هات چیپس، تحلیلهای جامعتری ارائه میدهد که شامل ابزار بنچمارک ‘Bench’، مقالات خبری و تحلیلی در مورد هوش مصنوعی، فوتونیک سیلیکون، ساخت تراشه و نقشههای راه محصولات از جمله پردازندههای گرافیکی و برنامههای توسعه TSMC است. این سرویس با سابقه طولانی خود، محتوای با کیفیت بالا و خبرنامه هفتگی ‘Uptime’ را برای علاقهمندان به فناوری فراهم میکند.
استارتاپ آمریکایی xLight، با حمایت پت گلسینگر، ۱۵۰ میلیون دلار مشوق فدرال تحت قانون CHIPS و علم دریافت کرده است. این شرکت در حال توسعه یک منبع نور مبتنی بر لیزر الکترون آزاد (FEL) برای لیتوگرافی EUV است که جایگزین منابع پلاسمای تولید شده با لیزر (LPP) سنتی میشود. این فناوری جدید با هدف بهبود چشمگیر کارایی تولید تراشه و تسریع قانون مور، اولین سیستم خود را در آلبانی خواهد ساخت.
این نوآوری پتانسیل ایجاد برتری حیاتی برای ایالات متحده در زنجیره تامین جهانی نیمهرساناها را دارد، زیرا سیستم FEL xLight روشنایی بیشتر و الگوبرداری دقیقتری را نوید میدهد. با این حال، اثبات قابلیت تولید انبوه آن چالشبرانگیز است. همچنین، استفاده از شبکه آزمایشگاهی وزارت انرژی ممکن است به طبقهبندی برخی عناصر منجر شود که ضمن تقویت کنترل داخلی، صادرات را محدود کند.
دادستانهای تایوانی خانههای لو ون-جن، معاون ارشد سابق TSMC را پس از شکایت این شرکت مبنی بر احتمال افشای اسرار تجاری به اینتل، بازرسی و دستگاههای دیجیتال را توقیف کردند. لو، که پس از دو دهه خدمت در TSMC به اینتل پیوسته بود، متهم به سوءاستفاده از اطلاعات حساس است. اینتل اتهامات را رد کرده و از لو حمایت میکند. وزیر اقتصاد تایوان نیز با تأکید بر اهمیت مالکیت فکری نیمهرساناها و احتمال درگیری قوانین امنیت ملی، این پرونده را از نزدیک رصد میکند. تحقیقات بر روی دادههای فرآیندهای ۲ نانومتری، A14 و A16 TSMC متمرکز است.
این پرونده قانونی، تنشها را میان اینتل و TSMC، دو غول تولیدکننده تراشه، که در رقابت برای پیشرفت در فرآیندهای ساخت پیشرفته هستند، افزایش میدهد. در حالی که TSMC در فناوریهای ۳ نانومتری و پایینتر پیشتاز است، اینتل با گره ۱۸A خود در تلاش برای جبران عقبماندگی است. این وضعیت آزمونی برای اثربخشی تدابیر حفاظتی شرکتی و قوانین ملی در مهار خطرات انتقال مالکیت فکری در صنعتی است که استعدادهای ارشد بین شرکتهای رقیب جابجا میشوند.
