مدیر مالی اینتل، دیوید زینسنر، اعلام کرده است که فرآیند ساخت 14A این شرکت (کلاس 1.4 نانومتری) در کاهش چگالی نقص، عملکردی بهتر از انتظار و بی‌سابقه از زمان فناوری 22 نانومتری دهه 2010 از خود نشان داده است. این پیشرفت باعث افزایش اعتماد اینتل و مشتریان داخلی و خارجی به این گره تولیدی شده است. زینسنر این عملکرد را با موفقیت فرآیند 22 نانومتری در مراحل اولیه توسعه مقایسه کرده است، که یکی از بهترین گره‌های تولیدی اینتل محسوب می‌شود.

با وجود اینکه تولید انبوه 14A تا سال 2028 فاصله دارد، مشتریان خارجی از هم‌اکنون علاقه عملی به ظرفیت‌های تولید آن نشان داده‌اند. 14A قرار است از ترانزیستورهای RibbonFET نسل دوم GAA، فناوری PowerDirect و لیتوگرافی High-NA EUV استفاده کند. اینتل با این پیشرفت، امیدوار است که 14A برخلاف برخی گره‌های ناموفق قبلی مانند 10 نانومتری و 20A، یک گره ماندگار و موفق باشد.