سامسونگ فاندری نقشه راه فناوری‌های ساخت خود را در کنفرانس NGL 2026 به‌روزرسانی کرد. گره SF1.4 (۱.۴ نانومتر) از ۲۰۲۷ به ۲۰۲۹ موکول شد. این شرکت بر بهبود فرآیندهای تولید SF2 (۲ نانومتر) در سه سال آینده تمرکز می‌کند تا رقابت‌پذیری تجاری آن را افزایش دهد. توافق با تسلا برای تامین پردازنده‌های AI5 و AI6 تا ۲۰۳۳ نیز در این تصمیم نقش دارد.
سامسونگ تایید کرد که از ابزارهای لیتوگرافی High-NA EUV برای گره SF1A (۱ نانومتر) که حدود ۲۰۳۰ معرفی می‌شود، استفاده خواهد کرد. اما این شرکت عجله‌ای برای به‌کارگیری High-NA EUV در فناوری‌های ۲ و ۱.۴ نانومتر ندارد، زیرا این فناوری هنوز نیازمند بهبود است و چالش‌هایی نظیر هزینه‌های بالا و نیاز به مواد جدید را به همراه دارد.