ASML، غول لیتوگرافی، اعلام کرده که برای کنترلهای صادراتی جدید چین بر عناصر خاکی کمیاب آماده است. مدیر مالی ASML، راجر داسن، به بلومبرگ گفت که به دلیل زمانهای طولانی تولید، این شرکت ذخایر کافی از مواد اولیه برای تامین تقاضای کوتاهمدت مشتریانش را دارد. چین اخیراً قوانینی را وضع کرده که صادرات عناصر خاکی کمیاب و محصولات حاوی آنها را نیازمند مجوز میکند. این اقدام میتواند زنجیره تامین جهانی را تحت تاثیر قرار دهد، زیرا ASML از این مواد در سیستمهای لیتوگرافی خود استفاده میکند.
داسن احتمال توقف تولید پس از دسامبر ۲۰۲۵ را کماهمیت جلوه داد و تاکید کرد که برنامهریزی تامین و چرخههای تولید طولانی ASML انعطافپذیری کافی برای جذب اختلالات موقت را فراهم میکند. این شرکت همچنین پیشبینی میکند که تقاضا از سوی مشتریان چینیاش در سال ۲۰۲۶ به دلیل لغو معافیتهای مجوز VEU و کاهش تقاضا از سوی تراشهسازان محلی، کاهش یابد.
موسسه فیزیک ریزساختار آکادمی علوم روسیه، نقشه راه بلندمدتی (2026-2037) را برای توسعه ابزارهای لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) داخلی با طول موج 11.2 نانومتر ارائه کرده است. این طرح شامل سه مرحله اصلی برای تولید تراشههای 40 نانومتری تا زیر 10 نانومتری است و از معماری متفاوتی نسبت به ASML (با لیزرهای هیبریدی، پلاسمای زنون و آینههای روتنیوم/بریلیوم) بهره میبرد. هدف اصلی، خودکفایی در تولید تراشه و ارائه راهکاری مقرونبهصرفه برای کارخانههای کوچکتر است.
این رویکرد روسی، با حذف نیاز به سیالات غوطهوری و پلاسمای مبتنی بر قلع، میتواند نگهداری را کاهش داده و برای مشتریان بینالمللی خارج از اکوسیستم ASML جذاب باشد. با این حال، قابلیت اجرایی این نقشه راه، به ویژه با توجه به استفاده از طول موج غیر استاندارد صنعتی 11.2 نانومتر و پیچیدگیهای فنی، هنوز نامشخص است. در صورت موفقیت، این پروژه میتواند تولید تراشههای پیشرفته را با هزینههای کمتر برای مصارف داخلی و صادراتی ممکن سازد.
