انباشت ابزارهای DUV توسط چین برای تولید تراشه‌های پیشرفته ۷ نانومتری

بر اساس گزارشی از مرکز فناوری و دولت‌داری (CTS)، تولیدکنندگان تراشه چینی تا اوایل سال ۲۰۲۶ حدود ۳۴۳ ابزار لیتوگرافی DUV غوطه‌وری را انباشته‌اند. بسیاری از این ابزارها قادر به ساخت تراشه‌های ۷ نانومتری هستند و به چین پتانسیل قابل توجهی برای تولید پردازنده‌های پیشرفته می‌دهند، علی‌رغم ناتوانی در دستیابی به سیستم‌های پیشرفته‌تر EUV شرکت ASML به دلیل تحریم‌ها. این انباشت گسترده در واکنش به محدودیت‌های آمریکا بر صنعت نیمه‌هادی چین صورت گرفته است.
CTS می‌گوید کنترل‌های صادراتی فعلی دارای شکاف‌اند، زیرا تجهیزات DUV خریداری شده برای فناوری‌های کمتر پیشرفته، می‌توانند برای گره‌های ۷ نانومتری استفاده شوند. از این تعداد، ۲۷۰ دستگاه اسکنرهای Twinscan NXT:1980i شرکت ASML هستند که برای چندالگوسازی تراشه‌های ۷ نانومتری حیاتی‌اند. تقاضای چین برای سیستم‌های ASML به طور غیرمعمولی بالا بوده و در سال‌های ۲۰۲۴ و ۲۰۲۵ سهم قابل توجهی از فروش خالص ASML را به خود اختصاص داده است.

جستجو در سایت

سبد خرید

درحال بارگذاری ...
بستن
مقایسه
مقایسه محصولات
لیست مقایسه محصولات شما خالی می باشد!