محققان دانشگاه نیویورک و کوئینزلند موفق به ساخت ماده نیمه‌رسانای ژرمانیوم ابررسانا با استفاده از تکنیک‌های استاندارد تولید تراشه شده‌اند. این دستاورد شامل نمایش میلیون‌ها اتصال جوزفسون ابررسانا بر روی یک ویفر 2 اینچی است که در دمای زیر 3.5 کلوین به حالت ابررسانا می‌رود. این فرآیند که بر پایه اپیتکسی پرتو مولکولی است، لایه‌های ژرمانیوم فوق‌العاده تمیز با دوپانت‌های گالیوم تولید می‌کند و از عملکرد بالای اتصالات اطمینان حاصل می‌کند.

این پیشرفت گامی مهم به سوی یکپارچه‌سازی مقیاس‌پذیر در سطح ویفر برای محاسبات کوانتومی و مدارهای RF کرایوژنیک محسوب می‌شود و می‌تواند گلوگاه‌های موجود در سیستم‌های کوانتومی با چگالی بالا را برطرف کند. یکنواختی بالای اتصالات ساخته شده، علیرغم دمای گذار کرایوژنیک، راه را برای کاربردهای گسترده‌تر در محاسبات کوانتومی، تشخیص کم‌نویز و کاربردهای فضایی باز می‌کند. تحقیقات آتی بر روی ویفرهای بزرگتر و ادغام با منطق معمولی متمرکز خواهد بود تا مسیر عملی برای اتصالات کوانتومی مقیاس‌پذیر فراهم شود.