اینتل به عنوان اولین شرکت، تولید انبوه تراشههای منطقی خود را با لیتوگرافی High NA EUV شرکت ASML آغاز کرده است. این فناوری برای تولید زیرمجموعهای از پردازندههای “Panther Lake” بر پایه گره Intel 18A به کار رفته است. High NA EUV که جانشین لیتوگرافی EUV فعلی است، امکان چاپ الگوهای مداری کوچکتر و متراکمتر را فراهم میآورد که برای مقیاسبندی نیمههادیها و نیازهای هوش مصنوعی حیاتی است. اینتل با این اقدام، گامی بزرگ در فناوری ساخت تراشه برداشته است.
این فناوری جدید با افزایش دیافراگم عددی، وضوح را بهبود بخشیده و امکان ایجاد الگوهای دقیقتر را فراهم میکند. اینتل High NA EUV را برای لایههای منتخب Panther Lake به کار میبرد. همکاری اینتل و ASML، شامل نصب اولین سیستمهای تجاری High NA EUV، نویدبخش افزایش چگالی ترانزیستور و بهبود عملکرد در پردازندههای آینده، از جمله Intel 14A است.
یک تیم تحقیقاتی مشترک، اولین مدار مجتمع سهبعدی یکپارچه را در یک کارخانه ریختهگری تجاری ایالات متحده تولید کرده است. این تراشه، حاصل همکاری مهندسان استنفورد، کارنگی ملون، پنسیلوانیا و MIT با SkyWater Technology، حافظه و منطق را به صورت عمودی روی یکدیگر قرار میدهد. با استفاده از ترانزیستورهای نانولوله کربنی و رم مقاومتی، این نمونه اولیه بهبود عملکرد قابل توجهی نسبت به طرحهای دو بعدی سنتی نشان داده و مسیرهای داده را کوتاه میکند.
شبیهسازیها بهبود عملکرد دوازده برابری را در بارهای کاری هوش مصنوعی پیشبینی میکنند و این معماری میتواند تا ۱۰۰۰ برابر بهبود در محصول انرژی-تاخیر (سرعت و کارایی) را ارائه دهد. اهمیت اصلی این پروژه در ساخت آن در یک محیط تجاری است که نشاندهنده قابلیت انتقال معماریهای سهبعدی یکپارچه از تحقیقات دانشگاهی به تولید انبوه است و آیندهای با دستگاههای الکترونیکی بسیار کارآمدتر و قدرتمندتر را نوید میدهد.
